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激光清洗不等于激光烧蚀

发表时间:2023-10-24 16:09

      激光清洗等于激光烧蚀吗?这是标准的胡说八道,激光清洗绝不等于激光烧蚀。

       激光清洗前,先确定污染物是什么,基底材料是什么,激光清洗的目的是利用不同的激光对不同材料起反应的特点,清除污染物,同时不伤害基底材料。先确定污染物和基底材料然后选择合适的激光。目前可以用激光清洗的激光类型主要有三种,波长为1064nm的光纤激光,波长为10600nm的二氧化碳激光,波长为355nm的紫外激光。三种激光细分为脉冲激光和连续激光。

   

       光纤激光和二氧化碳激光的作用原理主要是烧蚀作用,但是紫外激光作用原理是光化学作用,也俗称冷光源。光纤激光主要对导体材料和半导体材料起作用,二氧化碳激光主要对绝缘体材料起作用,紫外激光对所有材料都起作用。光纤激光和二氧化碳激光在清洗的过程中利用激光让物质气化消失,因此是热效应,紫外激光类似于打断分子键,类似于电解水的原理,水变成氢气和氧气而消失。因此紫外激光在清洗过程中几乎不产生热量,或者只有很少的热量。

       在微观角度是怎么发生的呢?可以这么来理解。激光也是一种光,它的光速和阳光是一样的,3*10~8次方,不同的光有不同的波长和振动频率,波长*频率=光速。因此不同波长有不同的振动频率。比如光纤激光的波长是1064nm,它的振动频率等于3*10~8/1064,二氧化碳激光的振动频率等于3*10~8/10600,金属材料分子振动活跃,当金属分子的振动频率和激光的振动频率相同时,就会发生共振,分子间的摩擦力加大,瞬间产生大量的热超过气化点被气化消失。绝缘材料分子间运动不活跃,运动频率正好和波长为10600nm的二氧化碳激光频率相同,当激光照射时候产生共振,瞬间产生大量的热,气化消失。紫外激光和其他两种光源截然不同,因为它的振动频率高,激光能量更高,它可以打断几乎所有材料的分子键。

       总结一下,激光清洗和吸收洗脸类似,先确定污染物和基底材料,激光清洗仅仅是清除污染物,同时不损伤基底材料。激光容易控制,精细化程度高,可以在微米级别清除污染物,比如芯片清洗,只有激光可以做到。随着各种激光类型的应用,激光清洗发挥空间越来越大。应该站在更高的角度来看激光清洗,激光除锈,激光除漆,激光清洗模具,激光清洗电路板等,都只是激光清洗行业的冰山一角。


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