激光清洗不等于激光烧蚀

      激光清洗等于激光烧蚀吗？这是标准的胡说八道，激光清洗绝不等于激光烧蚀。

       激光清洗前，先确定污染物是什么，基底材料是什么，激光清洗的目的是利用不同的激光对不同材料起反应的特点，清除污染物，同时不伤害基底材料。先确定污染物和基底材料然后选择合适的激光。目前可以用于激光清洗的激光类型主要有三种，波长为1064nm的光纤激光，波长为10600nm的二氧化碳激光，波长为355nm的紫外激光。三种激光又细分为脉冲激光和连续激光。

       光纤激光和二氧化碳激光的作用原理主要是烧蚀作用，但是紫外激光作用原理是光化学作用，也俗称冷光源。光纤激光主要对导体材料和半导体材料起作用，二氧化碳激光主要对绝缘体材料起作用，紫外激光对所有材料都起作用。光纤激光和二氧化碳激光在清洗的过程中利用激光让物质气化消失，因此是热效应，紫外激光类似于打断分子键，类似于电解水的原理，水变成氢气和氧气而消失。因此紫外激光在清洗过程中几乎不产生热量，或者只有很少的热量。

       在微观角度是怎么发生的呢？可以这么来理解。激光也是一种光，它的光速和阳光是一样的，3*10~8次方，不同的光有不同的波长和振动频率，波长*频率=光速。因此不同波长有不同的振动频率。比如光纤激光的波长是1064nm，它的振动频率等于3*10~8/1064，二氧化碳激光的振动频率等于3*10~8/10600，金属材料分子振动活跃，当金属分子的振动频率和激光的振动频率相同时，就会发生共振，分子间的摩擦力加大，瞬间产生大量的热超过气化点被气化消失。绝缘材料分子间运动不活跃，运动频率正好和波长为10600nm的二氧化碳激光频率相同，当激光照射时候产生共振，瞬间产生大量的热，气化消失。紫外激光和其他两种光源截然不同，因为它的振动频率高，激光能量更高，它可以打断几乎所有材料的分子键。

       总结一下，激光清洗和吸收洗脸类似，先确定污染物和基底材料，激光清洗仅仅是清除污染物，同时不损伤基底材料。激光容易控制，精细化程度高，可以在微米级别清除污染物，比如芯片清洗，只有激光可以做到。随着各种激光类型的应用，激光清洗发挥空间越来越大。应该站在更高的角度来看激光清洗，激光除锈，激光除漆，激光清洗模具，激光清洗电路板等，都只是激光清洗行业的冰山一角。